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標準簡介:本標準規(guī)定了應用掃描表面檢查系統(tǒng)(SSIS)對硅拋光片表面顆粒進行測試、計數(shù)和報告的程序。本標準適用于硅拋光片,也可適用于硅外延片或其他鏡面拋光片(如化合物拋光片)。本標準也適用于觀測硅拋光片表面的劃痕、桔皮、凹坑、波紋等缺陷,但這些缺陷的檢測、分類依賴于設(shè)備的功能,并與檢測時的初始設(shè)置有關(guān)。
標準號:GB/T 19921-2005
標準名稱:硅拋光片表面顆粒測試方法
英文名稱:Test method of particles on silicon wafer surfaces
標準類型:國家標準
標準性質(zhì):推薦性
標準狀態(tài):作廢
發(fā)布日期:2005-09-19
實施日期:2006-04-01
中國標準分類號(CCS):冶金>>金屬化學分析方法>>H17半金屬及半導體材料分析方法
國際標準分類號(ICS):冶金>>金屬材料試驗>>77.040.01金屬材料試驗綜合
替代以下標準:被GB/T 19921-2018代替
起草單位:北京有色金屬研究總院
歸口單位:全國有色金屬標準化技術(shù)委員會
發(fā)布單位:國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.
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