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標準簡介：本標準詳細說明了用標定的均勻摻雜物質(zhì)確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。
標準號：GB/T 20176-2006
標準名稱：表面化學分析 二次離子質(zhì)譜 用均勻摻雜物質(zhì)測定硅中硼的原子濃度
英文名稱：Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
標準類型：國家標準
標準性質(zhì)：推薦性
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2006-03-27
實施日期：2006-11-01
中國標準分類號（CCS）：儀器、儀表>>光學儀器>>N33電子光學與其他物理光學儀器
國際標準分類號（ICS）：化工技術(shù)>>分析化學>>71.040.40化學分析
起草單位：清華大學電子工程系
歸口單位：全國微束分析標準化技術(shù)委員會
發(fā)布單位：國家標準化管理委員.
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