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標準簡介：本準則規(guī)定了在表示掩模曝光設備的精密度和準確度時應遵循的一般要求。掩模曝光設備的圖形曝光精密度和準確度是通過測量制成的掩模來評估的，掩膜制造過程中的工藝條件對它有很大影響。所以，曝光條件應經廠家和用戶雙方同意。
標準號：GB/T 16879-1997
標準名稱：掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則
英文名稱：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
標準狀態(tài)：現行
發(fā)布日期：1997-06-20
實施日期：1998-03-01
中國標準分類號（CCS）：電子元器件與信息技術>>電子工業(yè)生產設備>>L97加工專用設備
國際標準分類號（ICS）：電子學>>31.020電子元件綜合
起草單位：中國科學院微電子中心
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發(fā)布單位：國家技術監(jiān)督局
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