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GB/T17473.3-1998厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法方阻測定

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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽:

標(biāo)準(zhǔn)簡介:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬漿料方阻的測試方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于貴金屬燒結(jié)型漿料方阻的測定。非貴金屬漿料亦可參照使用。

標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 17473.3-1998

標(biāo)準(zhǔn)名稱:厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 方阻測定

英文名稱:Test methods of precious metal pastes used for thick film microelectronics--Determination of sheet resistance

標(biāo)準(zhǔn)類型:國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):作廢

發(fā)布日期:1998-08-19

實施日期:1999-03-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(CCS):冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H21金屬物理性能試驗方法

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(ICS):冶金>>金屬材料試驗>>77.040.01金屬材料試驗綜合

替代以下標(biāo)準(zhǔn):被GB/T 17473.3-2008代替

起草單位:昆明貴金屬研究所

歸口單位:全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會

發(fā)布單位:國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局

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