檢測報告圖片模板:
檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽:
標(biāo)準(zhǔn)簡介:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用直排四探針法測量硅片徑向電阻率變化的方法。
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 11073-2007
標(biāo)準(zhǔn)名稱:硅片徑向電阻率變化的測量方法
英文名稱:Standard method for measuring radial resistivity variation on silicon slices
標(biāo)準(zhǔn)類型:國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行
發(fā)布日期:2007-12-18
實施日期:2008-02-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(CCS):冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(ICS):冶金>>金屬材料試驗>>77.040.01金屬材料試驗綜合
替代以下標(biāo)準(zhǔn):替代GB/T 11073-1989
起草單位:峨嵋山半導(dǎo)體材料廠
歸口單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會
發(fā)布單位:國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.
免責(zé)聲明:(更多標(biāo)準(zhǔn)請先聯(lián)系客服查詢!)
1.本站標(biāo)準(zhǔn)庫為非營利性質(zhì),僅供各行人士相互交流、學(xué)習(xí)使用,使用標(biāo)準(zhǔn)請以正式出版的版本為準(zhǔn)。
2.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來源于網(wǎng)絡(luò),不保證文件的準(zhǔn)確性和完整性,如因使用文件造成損失,本站不承擔(dān)任何責(zé)任。
3.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來源于網(wǎng)絡(luò),本站不承擔(dān)任何技術(shù)及版權(quán)問題,如有相關(guān)內(nèi)容侵權(quán),請聯(lián)系我們刪除。