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GB/T11073-2007硅片徑向電阻率變化的測量方法

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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽:

標(biāo)準(zhǔn)簡介:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用直排四探針法測量硅片徑向電阻率變化的方法。

標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 11073-2007

標(biāo)準(zhǔn)名稱:硅片徑向電阻率變化的測量方法

英文名稱:Standard method for measuring radial resistivity variation on silicon slices

標(biāo)準(zhǔn)類型:國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行

發(fā)布日期:2007-12-18

實施日期:2008-02-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(CCS):冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(ICS):冶金>>金屬材料試驗>>77.040.01金屬材料試驗綜合

替代以下標(biāo)準(zhǔn):替代GB/T 11073-1989

起草單位:峨嵋山半導(dǎo)體材料廠

歸口單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會

發(fā)布單位:國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.

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