標準簡介：本標準規(guī)定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質(zhì),并用電感耦合等離子質(zhì)譜儀定量檢測多晶硅表面上的金屬雜質(zhì)痕量分析方法。 本標準適用于堿金屬、堿土金屬和第一系列過渡元素如鈉、鉀、鈣、鐵、鎳、銅、鋅以及其他元素如鋁的檢測。本標準適用于各種棒、塊、粒、片狀多晶表面金屬污染物的檢測。由于塊、片或粒形狀不規(guī)則,面積很難準確測定,故根據(jù)樣品重量計算結(jié)果,使用的樣品重量為50g~300g,檢測限為0.01ng/mL。

標準號：GB/T 24582-2009

標準名稱：酸浸取 電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定多晶硅表面金屬雜質(zhì)

英文名稱：Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry

標準類型：國家標準

標準性質(zhì)：推薦性

標準狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：2009-10-30

實施日期：2010-06-01

中國標準分類號（CCS）：冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合

國際標準分類號（ICS）：電氣工程>>29.045半導體材料

起草單位：新光硅業(yè)科技責任有限公司

歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 203)

發(fā)布單位：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.