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標準簡介:本標準規(guī)定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質(zhì),并用電感耦合等離子質(zhì)譜儀定量檢測多晶硅表面上的金屬雜質(zhì)痕量分析方法。 本標準適用于堿金屬、堿土金屬和第一系列過渡元素如鈉、鉀、鈣、鐵、鎳、銅、鋅以及其他元素如鋁的檢測。本標準適用于各種棒、塊、粒、片狀多晶表面金屬污染物的檢測。由于塊、片或粒形狀不規(guī)則,面積很難準確測定,故根據(jù)樣品重量計算結(jié)果,使用的樣品重量為50g~300g,檢測限為0.01ng/mL。
標準號:GB/T 24582-2009
標準名稱:酸浸取 電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定多晶硅表面金屬雜質(zhì)
英文名稱:Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry
標準類型:國家標準
標準性質(zhì):推薦性
標準狀態(tài):現(xiàn)行
發(fā)布日期:2009-10-30
實施日期:2010-06-01
中國標準分類號(CCS):冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合
國際標準分類號(ICS):電氣工程>>29.045半導體材料
起草單位:新光硅業(yè)科技責任有限公司
歸口單位:全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 203)
發(fā)布單位:國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.
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