- N +

GB/T26068-2010硅片載流子復(fù)合壽命的無(wú)接觸微波反射光電導(dǎo)衰減測(cè)試方法

檢測(cè)報(bào)告圖片模板:

檢測(cè)報(bào)告圖片

檢測(cè)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽:

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介:本方法適用于測(cè)量均勻摻雜、經(jīng)過(guò)拋光處理的n型或p型硅片的載流子復(fù)合壽命。本方法是非破壞性、無(wú)接觸測(cè)量。在電導(dǎo)率檢測(cè)系統(tǒng)的靈敏度足夠的條件下,本方法也可應(yīng)用于測(cè)試切割或者經(jīng)過(guò)研磨、腐蝕硅片的載流子復(fù)合壽命。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 26068-2010

標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng):硅片載流子復(fù)合壽命的無(wú)接觸微波反射光電導(dǎo)衰減測(cè)試方法

英文名稱(chēng):Test method for carrier recombination lifetime in silicon wafers by non-contact measurement of photoconductivity decay by microwave reflectance

標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型:國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):作廢

發(fā)布日期:2011-01-10

實(shí)施日期:2011-10-01

中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)(CCS):冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H80半金屬與半導(dǎo)體材料綜合

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)(ICS):電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料

替代以下標(biāo)準(zhǔn):被GB/T 26068-2018代替

起草單位:有研半導(dǎo)體材料股份有限公司、瑟米萊伯貿(mào)易(上海)有限公司、中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院、萬(wàn)向硅峰電子有限公司、廣州昆德科技有限公司、洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司

歸口單位:全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC

發(fā)布單位:國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.

標(biāo)準(zhǔn)文檔查詢(xún)及下載

免責(zé)聲明:(更多標(biāo)準(zhǔn)請(qǐng)先聯(lián)系客服查詢(xún)!)

1.本站標(biāo)準(zhǔn)庫(kù)為非營(yíng)利性質(zhì),僅供各行人士相互交流、學(xué)習(xí)使用,使用標(biāo)準(zhǔn)請(qǐng)以正式出版的版本為準(zhǔn)。

2.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來(lái)源于網(wǎng)絡(luò),不保證文件的準(zhǔn)確性和完整性,如因使用文件造成損失,本站不承擔(dān)任何責(zé)任。

3.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來(lái)源于網(wǎng)絡(luò),本站不承擔(dān)任何技術(shù)及版權(quán)問(wèn)題,如有相關(guān)內(nèi)容侵權(quán),請(qǐng)聯(lián)系我們刪除。

返回列表
上一篇:GB5377-1985摩托車(chē)燃油消耗試驗(yàn)方法
下一篇:返回列表