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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡介：本標(biāo)準(zhǔn)適用于單晶硅、多晶硅中金屬雜質(zhì)素和非金屬雜質(zhì)素含量的測定。本標(biāo)準(zhǔn)包括雜質(zhì)素（十六個）的反應(yīng)堆中子活化儀器分析方法、銅和砷的反應(yīng)堆中子活化放射化分離分析方法、磷的反應(yīng)堆中子活化放射化分離分析方法、氧的α粒子活化儀器分析方法和碳的氘子活化儀器分析方法。
標(biāo)準(zhǔn)號：GB 4298-1984
標(biāo)準(zhǔn)名稱：半導(dǎo)體硅材料中雜質(zhì)元素的活化分析方法
英文名稱：The activation analysis method for the determination of elemental impurities in semiconductor silicon materials
標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：強(qiáng)制性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：1984-03-28
實施日期：1985-03-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號（CCS）：冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號（ICS）：29.040.30
替代以下標(biāo)準(zhǔn)：廢止公告：國家標(biāo)準(zhǔn)公告2017年第31號
起草單位：有色金屬研究總院
歸口單位：中國有色金屬工業(yè)協(xié)會
發(fā)布單位：國家標(biāo)準(zhǔn)局
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