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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)編號：GB/T 14146-2009硅外延層載流子濃度測定 汞探針電容-電壓法
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
標(biāo)準(zhǔn)簡介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅外延層載流子濃度汞探針電容電壓測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于同質(zhì)的硅外延層載流子濃度測量。測量范圍為:4×1013cm-3~8×1016cm-3。本標(biāo)準(zhǔn)檢測的硅外延層的厚度必須大于檢測偏壓下耗盡層的深度。本標(biāo)準(zhǔn)也可適用于硅拋光片的載流子濃度測量。
英文名稱： Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method
替代情況： 替代GB/T 14146-1993
中標(biāo)分類： 冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H80半金屬與半導(dǎo)體材料綜合
ICS分類： 電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料
發(fā)布部門： 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
發(fā)布日期： 2009-10-30
實施日期： 2010-06-01
*發(fā)日期： 1993-02-06
提出單位： 全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
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