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GB7287.10-1987紅外輻射加熱器光譜法向發(fā)射率測量方法

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GB 7287.10-1987.Measuring method for normal spectral emittence of i nfrared heater.
2.2.8 輻射測溫儀,精度不低于土1 %。
注:記錄部分也可由A/D轉(zhuǎn)換器、微型計算機及繪圖儀組成的記錄系統(tǒng)代替,系統(tǒng)精度不低于士2%。
2.3參比徐料
2.3.1參比涂料應(yīng)具有下列性質(zhì):
a.化學性質(zhì)穩(wěn)定,在測試溫度范圍內(nèi)涂覆于各種加熱器表面均不發(fā)生化學變化;
b.當 厚度不小于0.2m m時,至少對2. 5~ 15μm的紅外輻射不透明;
c.光譜法向發(fā) 射率在測試溫度范圍內(nèi)的平均溫度變化率小于0.03x 10-2/K ;
d. 全法向發(fā)射率大于0.8, 光譜輻射特性近似灰體。
2.3.2所給參比涂料在測試溫度范圍內(nèi)的光譜法向發(fā)射率數(shù)據(jù),其精度應(yīng)不低于士4 %。
3測量條件
3.1 環(huán)境溫度20土5 C。
3.2相對濕度不大于75%。
3.3測量應(yīng)在防塵防霞的實驗室中進行。
4測量步驟
4.1對待測試樣施加額定工作電壓,待溫度穩(wěn)定后,用輻射測溫儀測定試樣表面溫度分布,并確定其期心部位的等溫區(qū)以及等溫區(qū)的工作溫度,然后斷電冷卻至室溫。
4.2 將試樣固定在試樣支架上,調(diào)整光學系統(tǒng)達到下列要求:
4.2.1探測器光敏面與調(diào)制盤平面,光欄平面,試樣輻射面及單色儀入射狹縫平面相互平行且共軸;
4.2.2光學 系統(tǒng)所決定的試樣待測面積相對于探測器可作“點源”近似,且位于 等溫區(qū)內(nèi)并小于籌溫區(qū)面積。
4.3將控溫儀熱電偶焊接或粘接于待測面附近(在等溫區(qū)內(nèi))。用控溫儀將待測表面溫度控制在其工作溫度。待溫度穩(wěn)定后,開啟單色儀的掃描裝置,使之在2.5~ 15μm波長范圍內(nèi)進行連續(xù)掃描,同時使記錄儀的走紙機構(gòu)與之同步,測出放大系統(tǒng)輸出的試樣與調(diào)制盤差分光譜信號電壓U。隨鈹長變化的關(guān)系曲線。
4.4關(guān)閉控溫儀, 試樣冷卻至室溫后,在等溫區(qū)內(nèi)均勻徐覆參比涂料,涂覆厚度為o. 2mm,徐覆方法與獲取其發(fā)射率數(shù)據(jù)的原測量方法中的一致。然后開啟控溫儀(設(shè)定溫度與4. 3條相同)。溫度穩(wěn)定后,按4. 3條的方法測出放大系統(tǒng)輸出的參比徐料與調(diào)制盤差分光譜信號電壓U.隨波長變化的關(guān)系曲線。
4.5.移開試樣,測量放大系統(tǒng)輸出的背景與調(diào)制盤差分光譜信號電BEUw,隨波長變化的關(guān)系曲線(方法同4.3條)。
4.6用輻 射測溫儀測量等溫區(qū)的表觀工作溫度T,。
5測量結(jié)果計篁

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