檢測(cè)報(bào)告圖片
x-射線電子能譜檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x-射線電子能譜檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。
涉及x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)有53條。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x-射線電子能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量、光學(xué)設(shè)備、無損檢測(cè)、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、計(jì)量學(xué)和測(cè)量綜合、電子元器件綜合。
在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x-射線電子能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測(cè)試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、、光學(xué)測(cè)試儀器、顏料、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求
GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則
GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測(cè)到的樣品面積的測(cè)定
GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息
GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定
GB/T 17359-1998電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ISO 17109-2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測(cè)定濺射速率的方法
ISO 20903-2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息
ISO 18554:2016表面化學(xué)分析.電子光譜法.用X射線光電子能譜法分析的材料中X射線非預(yù)期降解的評(píng)定和校正程序
ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序
ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求
ISO 19830:2015表面化學(xué)分析 - 電子光譜 - X射線光電子能譜峰值擬合的*低報(bào)告要求
ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
ISO 17109:2015表面化學(xué)分析 - 深度分析 - X射線光電子能譜法中的濺射速率測(cè)定方法 俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜法使用單層和多層薄膜的濺射深度分析
ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定相對(duì)靈敏度因子的使用指南
ISO 20903:2011表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——報(bào)告結(jié)果時(shí)用于確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法
ISO 18516:2006表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——橫向分辨率的測(cè)定
ISO 20903:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.報(bào)告結(jié)果時(shí)確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法
ISO/TR 19319-2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.用分析儀觀察橫向分辨率 分析面積和樣品面積的測(cè)定
美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E995-11俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E995-2011在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-10俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
ASTM E996-2010俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-04俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
ASTM E995-04俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-2004俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
ASTM E995-97俄歇電子和X射線光電子能譜中背景差減技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序
BS ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息
BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息
廣東省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB44/T 1215-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性
DB44/T 1216-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南
法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息
，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子的使用指南
KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測(cè)定
韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB35/T 110-2000油漆物證檢測(cè)電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
AS ISO 18118-2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南
AS ISO 19319-2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對(duì)橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
檢測(cè)報(bào)告有效期
一般x-射線電子能譜檢測(cè)報(bào)告上會(huì)標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時(shí)間、出具報(bào)告的時(shí)間，不會(huì)標(biāo)注有效期。
檢測(cè)費(fèi)用價(jià)格
需要根據(jù)檢測(cè)項(xiàng)目、樣品數(shù)量及檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)而定，請(qǐng)聯(lián)系我們確定后報(bào)價(jià)。
檢測(cè)流程步驟
溫馨提示：以上內(nèi)容為部分列舉，僅供參考使用。更多檢測(cè)問題請(qǐng)咨詢客服。
