檢測(cè)報(bào)告圖片

x射線電子檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線電子檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。

涉及x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)有105條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線 電子涉及到分析化學(xué)、電子元器件綜合、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量、長(zhǎng)度和角度測(cè)量、光學(xué)設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備、無(wú)損檢測(cè)、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、輻射防護(hù)、計(jì)量學(xué)和測(cè)量綜合、耐火材料、環(huán)保、保健和安全。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線 電子涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子元件綜合、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、綜合測(cè)試系統(tǒng)、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、醫(yī)用電子儀器設(shè)備、、物理學(xué)與力學(xué)、光學(xué)測(cè)試儀器、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、輻射防護(hù)儀器、硅質(zhì)耐火材料、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、顏料、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求

GB/T 39560.301-2020電子電氣產(chǎn)品中某些物質(zhì)的測(cè)定 第3-1部分：X射線熒光光譜法篩選鉛、汞、鎘、總鉻和總溴

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 33352-2016電子電氣產(chǎn)品中限用物質(zhì)篩選應(yīng)用通則X射線熒光光譜法

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 32869-2016納米技術(shù) 單壁碳納米管的掃描電子顯微術(shù)和能量色散X射線譜表征方法

GB/T 20726-2015微束分析電子探針顯微分析X射線能譜儀主要性能參數(shù)及核查方法

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測(cè)到的樣品面積的測(cè)定

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定

GB/Z 21277-2007電子電氣產(chǎn)品中限用物質(zhì)鉛、汞、鉻、鎘和溴的快速篩選.X射線熒光光譜法

GB/T 21006-2007表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性

GB/T 17359-1998電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-醫(yī)藥，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

YY 9706.268-2022醫(yī)用電氣設(shè)備 第2-68部分：電子加速器、輕離子束治療設(shè)備和放射性核素射束治療設(shè)備用的X射線圖像引…

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 17109:2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測(cè)定濺射速率的方法

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序

ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO 17470:2014微束分析. 電子探針微量分析. 用波長(zhǎng)色散X射線光譜測(cè)定法定性點(diǎn)分析指南

ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報(bào)結(jié)果所需峰值強(qiáng)度和信息的測(cè)定方法

ISO 22489:2006微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

ISO 20903:2006表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X-射線光電光譜學(xué).報(bào)告結(jié)果時(shí)測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和必要信息的使用方法

ISO 17470:2004微光束分析.電子探針顯微分析.波長(zhǎng)分散X射線光譜法分析質(zhì)量點(diǎn)的指南

ISO 21270:2004表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

ISO 18118:2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E1217-11(2019)用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1588-17采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2108-16X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E1588-16a采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1588-16采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E995-11在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-11用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E996-10俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E1588-10e1掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E2108-10用X射線光電子分光計(jì)測(cè)定電子能量捆綁刻度的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2108-05X-射線光電分光儀的電子結(jié)合能刻度表校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1217-05用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E995-04螺旋電子光譜法和X射線光電光譜法中減去背景技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-04俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E1217-00用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E2108-00X射線光電子分光儀的電子結(jié)合能刻度表的校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

SIS SS-ISO 8963:1990能量在8千電子伏特至1.3兆電子伏特范圍內(nèi)的輻射防護(hù)用X及γ射線相關(guān)輻射量測(cè)定器　

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線光譜測(cè)量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

BS ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序

BS ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

BS ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS EN 60601-2-68-2015醫(yī)療電氣設(shè)備. 與電子加速器, 光離子束治療設(shè)備以及放射性核素束治療設(shè)備共同使用的基于X射線影像引導(dǎo)放射治療設(shè)備基本安全和基本性能的特殊要求

BS ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

BS ISO 17470:2014微束分析. 電子探針顯微分析. 采用波長(zhǎng)分散X射線光譜測(cè)定法的定性點(diǎn)分析指南

BS ISO 15632:2012微束分析. 用于電子探針顯微分析的能量分散X射線光譜儀規(guī)范和檢查用所選儀器性能參數(shù)

BS ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

BS ISO 22489:2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線光譜測(cè)量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

BS ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

BS ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度

BS ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

BS EN 100012-1996電子元器件的質(zhì)量評(píng)估協(xié)調(diào)體系.基礎(chǔ)規(guī)范.X射線檢驗(yàn)電子元件

國(guó)際電工委員會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

IEC 60601-2-68-2014醫(yī)用電氣設(shè)備.第2-68部分:與電子加速器、光離子束治療設(shè)備和放射性核素束治療設(shè)備一起使用的基于X射線的圖像引導(dǎo)放射治療設(shè)備的基本安全和基本性能的特殊要求

IEC 60601-2-68:2014醫(yī)療電氣設(shè)備. 第2-68部分: 與電子加速器, 輕離子束治療設(shè)備以及放射性核束治療設(shè)備一起使用的基于X射線的圖像引導(dǎo)放射治療設(shè)備的基本安全和基本性能的特殊要求

廣東省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

DB44/T 1215-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性

DB44/T 1216-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K0189-2013微束分析.電子探針顯微分析.波長(zhǎng)色散X射線光譜學(xué)用實(shí)驗(yàn)參數(shù)的測(cè)定

JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南

JIS K0190-2010微光束分析.電子探針顯微分析.波長(zhǎng)分散X射線光譜法對(duì)質(zhì)量點(diǎn)分析用指南

韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 22489:2012微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

KS D ISO 19319:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

KS D ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

KS D ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

NF X21-061-2008表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

NF B40-670-3-2007硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析(可選擇X射線熒光法).第3部分:感應(yīng)耦合等電子體和原子吸收光譜測(cè)定法

NF X21-006-2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線光譜測(cè)量法進(jìn)行塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息

NF X21-003-2006微光束分析.電子探針顯微分析.波長(zhǎng)分布X射線光譜測(cè)量法定量分析指南

美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

ANSI N43.3-2008一般輻射安全.用于非醫(yī)療的X射線和密封γ射線源輻射安全能量小于10Mev(兆電子伏特)的裝置

ANSI N43.3-1993普通輻射安全用美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn).利用非醫(yī)療X射線和密封γ射線源的輻射能量*高達(dá)10Mev(兆電子伏特)的裝置

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

SN/T 2003.4-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鉻、鎘和溴的測(cè)定.第4部分:能量色散X射線熒光光譜定性篩選法

SN/T 2003.5-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鉻、鎘和溴的測(cè)定 第5部分：能量色散X射線熒光光譜定量篩選法

SN/T 2003.3-2006電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鎘、鉻和溴的測(cè)定.第3部分:X射線熒光光譜定量篩選法

SN/T 2003.1-2005電子電氣產(chǎn)品中鉛、汞、鎘、鉻、溴的測(cè)定 第1部分:X射線熒光光譜定性篩選法

福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

DB35/T 110-2000油漆物證檢測(cè)電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法

歐洲電工標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

EN 100012-1995基本規(guī)范:電子元器件的X射線檢測(cè)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-航天，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

QJ 2689-1994電子元器件中多余物的X射線照相檢驗(yàn)方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線 電子的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南

AS ISO 19319:2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對(duì)橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

檢測(cè)報(bào)告有效期

一般x射線電子檢測(cè)報(bào)告上會(huì)標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時(shí)間、出具報(bào)告的時(shí)間，不會(huì)標(biāo)注有效期。

檢測(cè)費(fèi)用價(jià)格

需要根據(jù)檢測(cè)項(xiàng)目、樣品數(shù)量及檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)而定，請(qǐng)聯(lián)系我們確定后報(bào)價(jià)。

檢測(cè)流程步驟

溫馨提示：以上內(nèi)容為部分列舉，僅供參考使用。更多檢測(cè)問(wèn)題請(qǐng)咨詢客服。