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x射線光電子能譜制樣檢測報告如何辦理？檢測項目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線光電子能譜制樣檢測相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測試和評估。做檢測，找百檢。我們只做真實檢測。
涉及x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)有56條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜 制樣涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、光學(xué)和光學(xué)測量、無損檢測、有色金屬、電子元器件綜合。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜 制樣涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、光學(xué)測試儀器、貴金屬及其合金、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析X射線光電子能譜薄膜分析結(jié)果的報告
GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
GB/T 30704-2014表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
GB/T 28892-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強(qiáng)度的方法和報告結(jié)果所需的信息
GB/T 28633-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法
GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告
GB/T 19500-2004X射線光電子能譜分析方法通則
GB/Z 32490-2016表面化學(xué)分析X射線光電子能譜確定本底的程序
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 33502-2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)記錄與報告的規(guī)范要求
德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
DIN ISO 16129-2020表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 14701-2018表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量
BS ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
BS ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
BS ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
BS ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
BS ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
BS ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
BS ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
ISO 15470-2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
ISO 15470-2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求
ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
ISO/TR 19319-2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GOST R ISO 16243-2016確保測量一致性的國家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜 (XPS) 的記錄和報告數(shù)據(jù)
GOST R ISO 16243-2016確保測量一致性的國家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜 (XPS) 的記錄和報告數(shù)據(jù)
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
JIS K0152-2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0152-2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
NF X21-073-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
NF X21-071-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強(qiáng)度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM E995-2011在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-2010俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-2004俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
YS/T 644-2007鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量
韓國標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
AS ISO 19319-2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
AS ISO 18118-2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實驗測定的相對靈敏系數(shù)使用指南
檢測報告有效期
一般x射線光電子能譜制樣檢測報告上會標(biāo)注實驗室收到樣品的時間、出具報告的時間，不會標(biāo)注有效期。
檢測費用價格
需要根據(jù)檢測項目、樣品數(shù)量及檢測標(biāo)準(zhǔn)而定，請聯(lián)系我們確定后報價。
檢測流程步驟
溫馨提示：以上內(nèi)容為部分列舉，僅供參考使用。更多檢測問題請咨詢客服。
