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x射線的能譜檢測

檢測報告圖片

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x射線的能譜檢測報告如何辦理?檢測項目及標(biāo)準有哪些?百檢第三方檢測機構(gòu),嚴格按照x射線的能譜檢測相關(guān)標(biāo)準進行測試和評估。做檢測,找百檢。我們只做真實檢測。

涉及x射線的能譜的標(biāo)準有93條。

國際標(biāo)準分類中,x射線的能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、犯罪行為防范、光學(xué)和光學(xué)測量、光學(xué)設(shè)備、紙和紙板、物理學(xué)、化學(xué)、無損檢測、藝術(shù)和手工藝品、計量學(xué)和測量綜合、有色金屬、電子元器件綜合、輻射測量、天文學(xué)、大地測量學(xué)、地理學(xué)。

在中國標(biāo)準分類中,x射線的能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、造紙綜合、犯罪鑒定技術(shù)、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、紙、工藝美術(shù)品、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準與通用方法、、電子元件綜合、光學(xué)測試儀器、貴金屬及其合金、顏料、標(biāo)準化、質(zhì)量管理、半導(dǎo)體分立器件綜合。

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準化管理委員會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標(biāo)準化管理委員會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

GB/T 33502-2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜(XPS)數(shù)據(jù)記錄與報告的規(guī)范要求

國家質(zhì)檢總局,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

GB/Z 32490-2016表面化學(xué)分析X射線光電子能譜確定本底的程序

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 30704-2014表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定

GB/T 28892-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息

GB/T 28633-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強度標(biāo)的重復(fù)性和一致性

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定

GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告

GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法

GB/T 17362-2008黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法

GB/T 2679.11-2008紙和紙板 無機填料和無機涂料的定性分析.電子顯微鏡/X射線能譜法

GB/T 19267.6-2008刑事技術(shù)微量物證的理化檢驗 第6部分:掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GB/T 18873-2008生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則

GB/T 17507-2008透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件

GB/T 19500-2004X射線光電子能譜分析方法通則

GB/T 18873-2002生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則

GB/T 17723-1999黃金制品鍍層成分的X射線能譜測量方法

GB/T 17507-1998電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣通用技術(shù)條件

GB/T 17362-1998黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法

GB/T 17361-1998沉積巖中自生粘土礦物掃描電子顯微鏡及X射線能譜鑒定方法

GB/T 17359-1998電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則

GB/T 2679.11-1993紙和紙板中無機填料和無機涂料的定性分析電子顯微鏡/X射線能譜法

國際電工委員會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

IEC TS 62607-6-21:2022納米制造.關(guān)鍵控制特性.第6-21部分:石墨烯基材料.元素組成 C/O比:X射線光電子能譜

國際標(biāo)準化組織,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

ISO 17109:2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法

ISO 22581:2021表面化學(xué)分析X射線光電子能譜測量掃描的近實時信息含碳化合物表面污染的識別和校正規(guī)則

ISO 10810:2019表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強度的方法和報告結(jié)果時所需的信息

ISO 16129:2018表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法

ISO 14701:2018表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量

ISO 19668:2017表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).均勻材料中元素檢測極限的估算和報告

ISO 15470:2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明

ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO 13424:2013表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜;薄膜分析結(jié)果的報告

ISO 16243:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量

ISO/TS 10798:2011納米技術(shù).使用掃描電鏡與X射線能譜分析的單臂碳納米管的特征描述

ISO 10810:2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

公安部,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

GA/T 1937-2021法庭科學(xué) 橡膠檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1938-2021法庭科學(xué) 金屬檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1939-2021法庭科學(xué) 電流斑檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1522-2018法庭科學(xué) 射擊殘留物檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1520-2018法庭科學(xué) 黑**、煙**元素成分檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1519-2018法庭科學(xué) 墨粉元素成分檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 1521-2018法庭科學(xué) 塑料元素成分檢驗 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

GA/T 823.3-2018法庭科學(xué)油漆物證的檢驗方法第3部分:掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

美國材料與試驗協(xié)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

ASTM E2735-14(2020)用于選擇X射線光電子能譜所需校準的標(biāo)準指南

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準實施規(guī)程

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準實施規(guī)程

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準指南

ASTM E995-11在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準指南

ASTM E996-10俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準規(guī)程

ASTM E996-04俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準規(guī)程

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準實施規(guī)程

ASTM E1523-97X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準指南

ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準規(guī)程

德國標(biāo)準化學(xué)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

DIN ISO 16129:2020表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本

英國標(biāo)準學(xué)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

BS ISO 14701:2018表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量

BS ISO 18554:2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

BS ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求

BS ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 16243:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

BS ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強度的方法和報告結(jié)果要求的信息

BS ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量

BS ISO 10810:2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南

青海省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

DB63/T 1678-2018唐卡中礦物顏料的測定 X射線熒光光譜法(能譜法)

,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實驗測定的相對靈敏度因子的使用指南

KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析-俄歇電子能譜和X射線光電子能譜-分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定

KS D ISO 19318-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報告

日本工業(yè)標(biāo)準調(diào)查會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

JIS K0152-2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強度標(biāo)的重復(fù)性和一致性

JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南

廣東省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

DB44/T 1215-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性

DB44/T 1216-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性

法國標(biāo)準化協(xié)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

NF X21-073-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

NF X21-071-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則

NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息

行業(yè)標(biāo)準-有色金屬,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

YS/T 644-2007鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量

韓國標(biāo)準,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

KS D ISO 19319:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

福建省地方標(biāo)準,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

DB35/T 110-2000油漆物證檢測電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法

行業(yè)標(biāo)準-電子,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準導(dǎo)則

美國電氣電子工程師學(xué)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

IEEE 759:1984半導(dǎo)體X射線能譜分析器的試驗程序

澳大利亞標(biāo)準協(xié)會,關(guān)于x射線的能譜的標(biāo)準

AS ISO 19319:2006表面化學(xué)分析.Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法.分析員對橫向分辨率;分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法.均質(zhì)材料定量分析中實驗測定的相對靈敏系數(shù)使用指南

檢測報告有效期

一般x射線的能譜檢測報告上會標(biāo)注實驗室收到樣品的時間、出具報告的時間,不會標(biāo)注有效期。

檢測費用價格

需要根據(jù)檢測項目、樣品數(shù)量及檢測標(biāo)準而定,請聯(lián)系我們確定后報價。

檢測流程步驟

檢測流程步驟

溫馨提示:以上內(nèi)容為部分列舉,僅供參考使用。更多檢測問題請咨詢客服。

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