GB/T 38532-2020.Microbeam analysis-Electron backscatter diffraction-Measurement of average grain size.
1范圍
GB/T 38532規(guī)定了用電子背散射衍射法(EBSD)對(duì)拋光截面進(jìn)行平均晶粒尺寸的測(cè)定方法,包含與晶體試樣中的位置相關(guān)的取向.取向差和花樣質(zhì)量因子的測(cè)量要求1。
注1;使用光學(xué)顯微鏡測(cè)定品粒尺寸已為大家普遍接受,與其相比.EBSD具有很多技術(shù)優(yōu)勢(shì)，如高的空間分辨率和晶粒取向的定量描述等。
注2:該方法還可用于一些復(fù)雜材料(如雙相材料)的品粒尺寸測(cè)量。
注3:對(duì)變形程度較大的試樣進(jìn)行分析時(shí),需謹(jǐn)慎處理結(jié)果。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其較新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
ISO 16700微束分析 掃描電鏡 圖 像放大倍數(shù)校準(zhǔn)通則(Microbeam analysis-Scanning eletron microscopy- Guidelines for calibrating image magnification)
ISO/IEC 17025檢測(cè)和校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室能力的通用要求(General requirements for the competence of testing and calibration laboratories)
ISO 21748在測(cè)量不確定度評(píng)估中可重復(fù)性、再現(xiàn)性和正確性評(píng)估的使用指南(Guidance for the use of repeatability , reproducibility and trueness estimates in measurement uncertainty estimation)
ISO 23833微東分析 電 子探針顯微分析( EPMA)術(shù)語[ Microbeam analysis-Electron probe microanalysis (EPMA)-Vocabulary]

檢測(cè)流程步驟

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